Matériau d'empreinte flexible à 2 composants, coulable, durcissant par condensation, pour répliques en alliages métalliques à bas point de fusion (étain, plomb)

- Rapport de mélange : 100 : 2 parties en poids de silicone : réticulant 40
- Temps de travail : 40 minutes
- Démoulable après : 3-4 h à 23 °C

- Rapport de mélange : 100 : 3 parties en poids de silicone : réticulant 40
- Temps de traitement : 20 minutes
- Démoulable après : 2-3 h à 23 °C

- Résistance à la température continue : 200 °C
- Viscosité de mélange (23 °C), avant catalyse) : 10 000 mPa-s (= coulable)

Aucune chaleur de réaction n'est générée pendant la vulcanisation, de sorte que même de grandes quantités (par exemple 10 kg) peuvent être coulées sans risque de surchauffe.

- Couleur : brun rougeâtre
- Coloration : pâtes colorantes universelles R&G (écarts de couleur dus à la couleur de base du silicone)
- Densité : 1,44 g/cm³.
- Dureté Shore A : 60
- Allongement à la rupture : 120
- Résistance à la déchirure : > 4 N/mm
- Retrait linéaire après 7 jours/RT : 0,8 %.

Le caoutchouc de silicone KDSV M 4470 est particulièrement adapté aux applications de moulage où l'on peut renoncer à un allongement et une résistance à la déchirure élevés au profit d'une déformation prononcée et d'une stabilité à la chaleur, par exemple pour la production de moules de modèles avec peu ou pas de contre-dépouilles, où une bonne dissipation de la chaleur et une grande stabilité dimensionnelle sont requises.

Les applications typiques sont les moules avec

- haute stabilité à la pression pour les résines moussantes (pour les mousses de polyuréthane, de préférence avec une couche barrière)
- une résistance élevée au gonflement des composants de la résine de coulée tels que le styrène dans les résines de polyester
- résistance élevée à la chaleur et capacité à dissiper la chaleur pour le moulage d'alliages métalliques à bas point de fusion tels que le plomb et l'étain, jusqu'à 300 °C max.

Nouveau : Nous fournissons désormais nos conteneurs avec une pipette de distribution.